X-ray Optics: Applications for Solids/Ed. H.-J. Queisser.–Berlin; Heidelberg; New York; Springer-Verlag, 1978.–227 p.–(Topics in Applied Physics. 22).
Первое, что бросается в глаза, это следующее. Книга издана в 1977 г. При небольшом объеме в 255 страниц она содержит 430 литературных ссылок. И среди них мы находим ссылки на журнальные статьи, вышедшие в свет в 1977 г.!
Разумеется, только так и надо. Книга, пролежавшая в издательстве 3–4 года (а именно эта судьба, к сожалению, ждет многие из издаваемых нами книг), значительно устарела уже в день своего выхода в свет.
Однако малый интервал между написанием и изданием влечет за собой и некий недостаток. Создание серьезной книги, содержание которой доведено до дня появления в книжном магазине, не под силу одному автору, если речь идет о мало-мальски широкой области. А в настоящее время даже такая область знания, как рентгеновская оптика, которой несколько десятков лет назад достаточно было посвятить десяток страниц, уже разбилась на подспециальности.
Оба эти обстоятельства, т. е. фантастическое увеличение потока информации и все возрастающая узкая специализация, приводят к тому, что большинство книг представляет собой сборники, а не монографии в прямом смысле этого слова.
Мне нетрудно подтвердить справедливость сказанного. Вот новый каталог книг по физике, издаваемых издательством «Академик Пресс» в декабре 1977 г. Всего книг 40. Из них 28 – это сборники обзоров такого же типа, что и рецензируемая книга.
Так в чем же состоит недостаток таких книг, которые составитель компонует из нескольких обзоров, составленных узкими специалистами. Разумеется, в том, что такая книга будет неровной, будет содержать повторения. Мы не найдем в ней общего стержня, на который нанизано содержание книги. Мы не получим взгляда на всю область науки с высоты птичьего полета, что затруднит нам понимание относительной ценности отдельных ее глав и оценку перспектив развития тех или иных направлений.
Вводные статьи, которые пишутся редакторами таких сборников, лишь в незначительной степени улучшают дело.
И тем не менее полезность таких книг трудно переоценить. Сборник обзоров помогает войти в область. А войти в нее, пользуясь четыреста тридцатью оригинальными статьями, задача,– которая мало кому под силу.
Еще одно общее замечание – и я приступаю к обзору обзоров сборника.
И для этого и для других подобных книг характерен прагматизм. Полезность области является основным критерием ее ценности.
Не случайно в первом абзаце предисловия сказано: «Оптика приобрела вторую молодость благодаря открытию лазеров. Рентгеновская оптика получила новые стимулы развития благодаря развитию техники изучения плазмы, из-за развития астрономии. Синхротроны создали новые возможности для использования рентгеновских лучей…».
Все это совершенно справедливо, и действительно, рентгеновская оптика, так же как и оптика видимого излучения, переживает второе рождение.
Составитель поместил в книгу обзоры следующих тем: источники рентгеновских лучей большой интенсивности (авторы Иошиматсу и Козаки), рентгеновская литография (Шпиллер и Федер), рентгеновская и нейтронная интерферометрия (Бонзе и Графф), двумерная (секционная) топография (Отье), телевизионная топография (Гартманн).
Имея в виду огромную роль микроэлектроники, пожалуй, на первое место по значимости следует поставить статью, посвященную рентгеновской литографии. Эта область рентгеновской оптики имеет целью контроль и создание методов уплотнения интегральных схем, рисуемых на поверхности кристалла кремния или иного полупроводника. Авторы определяют рентгеновскую литографию, как применение рентгеновской микроскопии для изготовления микроэлектронных схем. Для этой цели нужно располагать маской, изготовленной из материала, поглощающего рентгеновские лучи, нужен «резист» высокого разрешения, чувствительный по отношению к рентгеновским лучам, и сильный источник мягких рентгеновских лучей, которые действовали бы через маску на «резист».
Рентгеновские лучи производятся обычным способом – бомбардировкой электронами охлаждаемого водой анода (энергия электронов 5–10 кэВ). Маска позволяет рентгеновским лучам воздействовать лишь на нужные участки резиста, который после проявления дает изображение маски.
Статья построена как техническое описание области. Сначала обсуждается вопрос о том, какие длины волн рентгеновских лучей наиболее подходят для целей литографии. Затем идет речь о выборе материала для мембран, из которых изготовляются маски. Годятся силиконовые мембраны, нитрид кремния, органические пленки. Каждый из них имеет свои достоинства и недостатки. Далее рассматриваются подходящие источники рентгеновских лучей. Для литографии не подходят обычные трубки, поскольку излучаемый ими спектр содержит лучи слишком жесткие, чтобы обеспечить контрастность маски и заставить их поглощаться в достаточной степени в материале резиста. Авторы приводят схемы нескольких подходящих установок, но в конце рассмотрения напоминают, что к. п. д. всех подобных установок, как известно, очень низкий, а именно меньше одной десятой доли процента.
